[发明专利]一种633nm高透过率金属线栅在审
| 申请号： | 202211023323.3 | 申请日： | 2022-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN115407441A | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 方志辉;李广伟 | 申请（专利权）人： | 福建睿创光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 福州顺升知识产权代理事务所(普通合伙) 35242 | 代理人： | 林志杰 |
| 地址： | 350000 福建省福州市闽侯县上街*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 633 nm 透过 金属线 | ||
【权利要求书】：
1.一种633nm高透过率金属线栅，其特征在于：包括基底(4)以及通过镀膜设置于所述基底(4)上的金属层(3)，所述金属层(3)远离基底(4)的一侧还设有保护层(1)，所述保护层(1)与基底(4)之间填充有粘贴层(2)，所述保护层(1)通过粘贴层(2)粘贴的设置与基底(4)、金属层(3)形成一体；
所述金属层(3)的周期小于400nm，金属层(3)深度为0.14-0.2μm，所述金属层(3)材料为金或银。
2.根据权利要求1所述的一种633nm高透过率金属线栅，其特征在于：所述的粘接层为光学胶。
3.根据权利要求1所述的一种633nm高透过率金属线栅，其特征在于：所述粘贴层(2)材质为光学胶。
4.根据权利要求1所述的一种633nm高透过率金属线栅，其特征在于：所述基底(4)与保护层(1)的材质为光学玻璃。
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