[发明专利]一种633nm高透过率金属线栅在审

专利信息
申请号: 202211023323.3 申请日: 2022-08-25
公开(公告)号: CN115407441A 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 方志辉;李广伟 申请(专利权)人: 福建睿创光电科技有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 福州顺升知识产权代理事务所(普通合伙) 35242 代理人: 林志杰
地址: 350000 福建省福州市闽侯县上街*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 633 nm 透过 金属线
【说明书】:

发明公开了一种633nm高透过率金属线栅,该金属线栅包括保护层、粘接层、金属层和基底,保护层为低折射率光学玻璃,粘接层为光学胶,金属层为周期性结构,基底为普通光学玻璃材料,该金属线栅的线栅周期小于400nm,线栅槽型为矩形,深度0.14~0.2um。本发明的633nm高透过率金属线栅在633波长,光线0°入射下,透过率高于95%,消光比大于40db。

技术领域

本发明涉及光学元件技术领域,具体为一种633nm高透过率金属线栅。

背景技术

金属线栅偏振片非常适用于需要高对比度偏振的应用。金属线栅偏振片设计用于传输所需的偏振状态同时又可反射不需要的状态。随着医疗显影、液晶成像、遥感卫星等技术的飞速发展,偏振器、滤波器等功能器件被广泛应用于各个领域,金属线栅偏振片作为众多仪器设备的核心元件,其优良性能也逐步被突显出来,常规的金属线栅属于曝露状态,因此在加工过程和使用过程中需要极易破环栅线使其失去偏振效应;随着应用场景的多方发展,常规的曝露式金属线栅已经不适合在各种极端环境下使用;目前常见的金属线栅其透过效率低于90%,消光比低于30db,在高端使用场景下,其效率和消光比已略显不足。

发明内容

本发明的目的在于提供一种633nm高透过率金属线栅,以解决上述技术问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种633nm高透过率金属线栅,包括基底以及通过镀膜设置于所述基底上的金属层,所述金属层远离基底的一侧还设有保护层,所述保护层与基底之间填充有粘贴层,所述保护层通过粘贴层粘贴的设置与基底、金属层形成一体;

所述金属层的周期小于400nm,金属层深度为0.14-0.2μm,所述金属层材料为金或银。

优选的,所述的粘接层为光学胶。

优选的,所述粘贴层材质为光学胶。

优选的,所述基底与保护层的材质为光学玻璃。

与现有技术相比,本发明的有益效果为:

金属线栅通过光学胶覆盖有材质为光学玻璃的保护层,金属线栅远离保护层的一侧端面设置基底,可在多种极端环境下使用,且制作时仅需对一层金属层进行刻蚀,刻蚀工艺冗余度高,使金属线栅保持好的偏振效应;金属层深度采用0.14-0.2μm、且采用金或银材质,其占空比能控制在0.4-0.6,从而使金属线栅具备更好的透过率与消光比。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的结构剖视示意图;

图2为本发明实施例的透过率曲线;

图3为本发明实施例的消光比曲线。

附图中,各标号所代表的部件列表如下:

1、保护层;2、粘贴层;3、金属层;4、基底。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-3,本发明提供一种技术方案:一种633nm高透过率金属线栅,包括基底4以及通过镀膜设置于基底4上的金属层3,金属层3远离基底4的一侧还设有保护层1,保护层1与基底4之间填充有粘贴层2,保护层1通过粘贴层2粘贴的设置与基底4、金属层3形成一体;金属层3的槽型为矩形。

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