[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202210962489.5 申请日: 2017-01-16
公开(公告)号: CN115117054A 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 中川让;森诚悟;坂口拓生;明田正俊;中野佑纪 申请(专利权)人: 罗姆股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L21/337;H01L27/098;H01L29/12;H01L29/78;H01L29/808
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 金成哲;郑毅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种半导体装置,半导体装置(1)包括形成于半导体层的第一主面的表层部的沟槽栅极构造(6)。在沟槽栅极构造(6)的侧方,在半导体层的第一主面的表层部形成有源区(10)及阱区(11)。阱区(11)相对于源区(10)形成于半导体层的第二主面侧的区域。在阱区(11)中,在沿着沟槽栅极构造(6)的部分形成有沟道。在半导体层中,在沟槽栅极构造(6)及源区(10)之间的区域形成有叠层区域(22)。叠层区域(22)具有形成于半导体层的第一主面的表层部的p型杂质区域(20)及相对于第二导电型杂质区域(20)形成于半导体层的第二主面侧的n型杂质区域(21)。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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