[发明专利]一种晶圆清洗设备及供液方法有效
| 申请号： | 202210906452.0 | 申请日： | 2022-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN114951193B | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | 许峯嘉;蔡嘉雄;徐柏翔 | 申请（专利权）人： | 常州捷佳创精密机械有限公司;创微微电子（常州）有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00;B08B3/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 常州市韬略专利代理事务所(普通合伙) 32565 | 代理人： | 何聪 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体领域，尤其涉及一种晶圆清洗设备及供液方法，其中的一种晶圆清洗设备，包括供液系统、若干依次层叠的罩盖、与所述供液系统连通的喷淋系统、适于放置晶圆的旋转系统、设置于所述罩盖下方的收集系统和升降驱动系统；所述喷淋系统适于向晶圆表面喷洒清洗液；所述收集系统适于收集晶圆清洗过程中产生的气体和液体；所述升降驱动系统位于所述收集系统下方，适于顶起或放下所述罩盖，通过升降驱动系统依次顶起或放下罩盖，进而多重药剂能够从各罩盖之间对晶圆进行清洗，避免各药剂交叉污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 设备 方法 | ||
【主权项】：
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