[发明专利]一种镀膜系统

摘要

本发明涉及PECVD纳米防水镀膜技术领域，具体公开了一种镀膜系统，该镀膜系统包括工艺腔室、射频极、料框和料框架，料框包括框体和第一网孔板，第一网孔板设置在框体的四周，产品放置在框体上的卡槽内，射频极连接电源后与接地的工艺腔室的内壁之间形成的电场空间能够将前驱物激发形成等离子体，等离子体在工艺腔室内部空间进行扩散，并通过料框的第一网孔板扩散至产品所在位置，由于第一网孔板的设置，避免了等离子体直接冲击产品，同时第一网孔板也能够起到匀流的作用，使得框体上各个位置的产品附近的等离子体浓度均匀，从而使得各个位置的产品的成膜速率相近，成膜厚度一致，镀膜后的产品表面各处色差较小。