[发明专利]一种金刚石基薄膜电路制作方法及其电路在审

专利信息
申请号: 202210779958.X 申请日: 2022-07-04
公开(公告)号: CN115087196A 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 王斌;孙吉胜;姜万顺;邓建钦;宋振国;付延新;桑锦正;孙建华;王沫 申请(专利权)人: 中电科思仪科技股份有限公司
主分类号: H05K1/03 分类号: H05K1/03;H05K3/00;H05K3/28
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 王雪
地址: 266555 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于金刚石基薄膜电路技术领域,具体涉及一种金刚石基薄膜电路制作方法及其电路。该方法包括:选定底层硅材料;在底层硅材料的上方制作金刚石膜;对金刚石膜的上表面进行清洗;在金刚石膜的上表面镀膜,形成膜层,且膜层上表面为金层;在膜层的上表面涂覆光致抗蚀剂,并做前烘处理;采用紫外曝光机,利用相应的掩膜版对光致抗蚀剂进行处理,形成工艺窗口;在工艺窗口上电镀金,形成薄膜电路图形,并在薄膜电路图形上表面镀一层保护层;去除光致抗蚀剂;去除保护层;根据电路外形,进行开槽处理,形成外形加工槽;将硅腐蚀液注入外形加工槽,以去除底层硅材料;清洗得到金刚石基薄膜电路。以硅材料作为支撑体,避免加工过程中的碎片现象。
搜索关键词: 一种 金刚石 薄膜 电路 制作方法 及其
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