[发明专利]真空镀膜系统在审

专利信息
申请号: 202210675641.1 申请日: 2022-06-15
公开(公告)号: CN114855118A 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 王君 申请(专利权)人: 沈阳爱科斯科技有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 汪喆
地址: 110000 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供一种真空镀膜系统,属于镀膜设备技术领域。真空镀膜系统,包括真空镀膜室和刻蚀装置;刻蚀装置包括相对设置于真空镀膜室内的第一刻蚀机构和第二刻蚀机构,第一刻蚀机构包括第一刻蚀组件和第一阳极,第二刻蚀机构包括第二刻蚀组件和第二阳极;第一刻蚀组件与真空镀膜室的侧壁相连接,第一阳极设置于真空镀膜室内,且位于第一刻蚀组件的前端;第二刻蚀组件与真空镀膜室的顶壁相连接,第二阳极与真空镀膜室的底壁相连接,且与第二刻蚀组件相对设置。通过在真空镀膜室内相对设置的第一刻蚀机构和第二刻蚀机构能够形成覆盖率更大的刻蚀区,从而在一定程度上提高镀膜效果和镀膜效率。
搜索关键词: 真空镀膜 系统
【主权项】:
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