[发明专利]一种晶圆承载平台在审
申请号: | 202210670454.4 | 申请日: | 2022-06-14 |
公开(公告)号: | CN114975220A | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 产文兵;郑军 | 申请(专利权)人: | 聚时科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 武汉天领众智专利代理事务所(普通合伙) 42300 | 代理人: | 林琳 |
地址: | 上海市杨浦区杨树浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及晶圆加工技术领域,尤其涉及一种晶圆承载平台,包括马达、氧化铝多孔陶瓷、气滑环,所述氧化铝多孔陶瓷通过支撑环安装在马达上,所述气滑环设置在马达的中空位置,所述气滑环与氧化铝多孔陶瓷底部的密封板连接,且气滑环的可水平旋转的气管接口穿过密封板为氧化铝多孔陶瓷提供真空吸附晶圆,所述马达用于带动氧化铝多孔陶瓷水平旋转。本发明通过分布于氧化铝致密陶瓷的气道分隔812寸晶圆吸附功能,接触面氧化铝多孔陶瓷则具有较高孔隙率及通孔率保证吸附翘曲较大的晶圆,气滑环能够很好的保证平台面需要旋转360°工况。本技术方案旨在对平面度要求较高且对大翘曲度晶圆的真空吸附牢固性。 | ||
搜索关键词: | 一种 承载 平台 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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