[发明专利]一种半导体发光器件用清洗机在审
| 申请号： | 202210655186.9 | 申请日： | 2022-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN115041453A | 公开（公告）日： | 2022-09-13 |
| 发明（设计）人： | 林荔 | 申请（专利权）人： | 林荔 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 351100 福建省莆*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体发光器件用清洗机，其结构包括主体、控制面板、排污口，主体的前端设有控制面板，主体包括清洗槽、超声波发生器、放置装置，放置装置包括放置框、隔槽、顶盖、支撑装置、排污槽、夹紧装置，支撑装置包括支撑体、支撑座、支撑槽、侧流槽、缓冲装置、下流槽，缓冲装置包括缓冲板、流动槽、支撑片、缓冲橡胶，缓冲橡胶包括橡胶块、形变槽、支撑条、摩擦槽，本发明利用将半导体屏幕垂直放置在隔槽中，再利用支撑装置对其进行支撑，然后利用夹紧装置的侧面进行支撑，放置半导体屏幕进行清洗的时候与隔槽的侧端面碰撞，使得半导体端面的锡膏脱落之后，能够直接往排污槽集中排走，避免半导体屏幕清洗之后还残留有锡膏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 发光 器件 清洗 | ||
【主权项】：
暂无信息
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