[发明专利]一种半导体发光器件用清洗机

说明书

本发明公开了一种半导体发光器件用清洗机，其结构包括主体、控制面板、排污口，主体的前端设有控制面板，主体包括清洗槽、超声波发生器、放置装置，放置装置包括放置框、隔槽、顶盖、支撑装置、排污槽、夹紧装置，支撑装置包括支撑体、支撑座、支撑槽、侧流槽、缓冲装置、下流槽，缓冲装置包括缓冲板、流动槽、支撑片、缓冲橡胶，缓冲橡胶包括橡胶块、形变槽、支撑条、摩擦槽，本发明利用将半导体屏幕垂直放置在隔槽中，再利用支撑装置对其进行支撑，然后利用夹紧装置的侧面进行支撑，放置半导体屏幕进行清洗的时候与隔槽的侧端面碰撞，使得半导体端面的锡膏脱落之后，能够直接往排污槽集中排走，避免半导体屏幕清洗之后还残留有锡膏。

技术领域

本发明涉及半导体发光技术领域，具体的是一种半导体发光器件用清洗机。

背景技术

半导体发光器件是指通电之后能够发光的电子器件，通常半导体发光器件在进行生产加工之后，需要对封装后发光器件端面残留的焊膏与锡膏进行清洗，半导体在进行清洗的时候，利用化学液、清洗水等多种液体，使用后会经由废水排管排出，再通过过滤得到清洗干净的半导体发光器件，而在对半导体发光器件进行清洗的时候需要使用到清洗机。

基于上述本发明人发现，现有的一种半导体发光器件用清洗机主要存在以下几点不足，例如：清洗机在半导体屏幕进行清洗的时候，利用超声波产生的震动，加快反应剂与附在发光器件端面的焊膏与锡膏反应，由于半导体屏幕水平放置在清洗槽中，且通过超声波震动脱落的锡膏还会滞留在半导体屏幕的端面，导致将半导体屏幕从反应剂中捞取时，会有一部分锡膏附在半导体屏幕的端面，造成半导体屏幕清晰不干净的情况。

发明内容

针对上述问题，本发明提供一种半导体发光器件用清洗机。

为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种半导体发光器件用清洗机，其结构包括主体、控制面板、排污口，所述主体的前端设有控制面板，所述排污口位于主体的右侧端面，所述主体包括清洗槽、超声波发生器、放置装置，所述清洗槽设置在主体的内部正中间，所述超声波发生器位于清洗槽的内部侧端，所述放置装置安装在清洗槽的内部正中间。

进一步的，所述放置装置包括放置框、隔槽、顶盖、支撑装置、排污槽、夹紧装置，所述放置框设置在清洗槽的内部上端，所述隔槽设有八个，且横向排列于放置框的内部，所述顶盖与放置框活动卡合，所述支撑装置安装在隔槽的内部底端，所述排污槽位于支撑装置的下方，所述夹紧装置以两个为一组，设置在隔槽的两端，所述排污槽的宽度由上端向下端逐渐缩小。

进一步的，所述支撑装置包括支撑体、支撑座、支撑槽、侧流槽、缓冲装置、下流槽，所述支撑体设置在隔槽的内部底端，且支撑体的内部为剖空状，所述支撑座设置在支撑体的内部正中间，所述支撑槽位于支撑座的上端，所述侧流槽位于支撑槽的两端，所述缓冲装置设有六个，且横向排列于支撑槽的正中间，所述下流槽贯穿于支撑座的内部，所述支撑座的上端面由中间向侧端倾斜15度。

进一步的，所述缓冲装置包括缓冲板、流动槽、支撑片、缓冲橡胶，所述缓冲板嵌固在支撑槽的上端面，所述流动槽位于缓冲板的下端，所述支撑片设有四个，且横向排列于流动槽的上下端面，所述缓冲橡胶嵌固在缓冲板的顶部端面，所述流动槽贯穿于缓冲板的端面。

进一步的，所述缓冲橡胶包括橡胶块、形变槽、支撑条、摩擦槽，所述橡胶块嵌固在缓冲板的上端面，所述形变槽位于橡胶块的内部，所述支撑条设有六个，且横线排列于形变槽的内部，所述摩擦槽设有六个，且横向排列于橡胶块的上端面，所述支撑条的宽度由两端向中间逐渐缩小。

进一步的，所述夹紧装置包括夹紧块、弹力片、空槽、复位条、接触头，所述夹紧块为八字状，且嵌固在隔槽的侧端面，所述弹力片设置在夹紧块的内部，所述空槽位于夹紧块的内部上端，所述复位条设有五个，且横线排列于空槽的内部，所述接触头嵌固在夹紧块的末端，所述复位条的内部为剖空状，且宽度由上向下逐渐缩小。