[发明专利]一种用于半导体加工的超声波真空清理装置在审
| 申请号： | 202210581370.3 | 申请日： | 2022-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN115069664A | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 孙涵清 | 申请（专利权）人： | 广东中天优智工业科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/08;B08B3/14;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 沧州市宏科专利代理事务所(普通合伙) 13134 | 代理人： | 喻慧玲 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市南海区西樵镇科技工业园河*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及半导体加工附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于半导体加工的超声波真空清理装置，其结构简单，在清洗完毕后，可自动将器件表面清洗液除去，然后打开压盖，取出置物格内的器件，简化操作步骤，易于进行生产自动化；包括：清洗箱，清洗箱内部中空，且一侧侧壁上连通进液阀、溢流阀和排放阀，清洗箱顶部通过铰链转动安装有压盖；清洗箱内远离铰链一侧固定连接有连接板，连接板上转动安装有转轴，转轴一端伸出至清洗箱外部，并且在清洗箱与转轴之间设置机械密封，转轴上固定连接有摆臂，摆臂远离转轴一端固定连接驱动轴；清洗箱内靠近铰链一侧开设滑槽，滑槽内滑动安装滑块，滑块上固定连接带有横向长条孔的环体。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体 加工 超声波 真空 清理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东中天优智工业科技有限公司，未经广东中天优智工业科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210581370.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
