[发明专利]地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法在审
| 申请号： | 202210540043.3 | 申请日： | 2022-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN114856636A | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 赵修龙;万祥兵;方丹;李良权;补约依呷;陈鹏;邵兵;陈登义;王宽 | 申请（专利权）人： | 中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司 |
| 主分类号： | E21D11/10 | 分类号： | E21D11/10 |
| 代理公司： | 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 | 代理人： | 韩小燕;沈敏强 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法。本发明所采用的技术方案是：一种地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法，其特征在于：低压注浆前完成地下洞室顶拱相应部位的支护措施；完成地下洞室顶拱相应部位的注浆孔位放样和开孔；将所有注浆孔分为先进行注浆的Ⅰ序注浆孔和后进行注浆的Ⅱ序注浆孔，遵循逐渐加密原则进行分序注浆，采用全孔一次注浆法，止浆塞布置在注浆孔孔口位置；所述Ⅰ序注浆孔的注浆材料采用普硅水泥，该普硅水泥水灰比具有多个级别，当注入率大于预设值时，采用浓一级的水灰比浆液灌注；所述Ⅱ序注浆孔的注浆材料采用超细水泥，该超细水泥水灰比具有多个级别，当注入率大于预设值时，采用浓一级的水灰比浆液灌注。 | ||
| 搜索关键词： | 地下 洞室顶拱 浅表 围岩 低压 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司，未经中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210540043.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
