[发明专利]地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法在审
申请号: | 202210540043.3 | 申请日: | 2022-05-18 |
公开(公告)号: | CN114856636A | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 赵修龙;万祥兵;方丹;李良权;补约依呷;陈鹏;邵兵;陈登义;王宽 | 申请(专利权)人: | 中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司 |
主分类号: | E21D11/10 | 分类号: | E21D11/10 |
代理公司: | 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 | 代理人: | 韩小燕;沈敏强 |
地址: | 310014 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 地下 洞室顶拱 浅表 围岩 低压 方法 | ||
本发明涉及一种地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法。本发明所采用的技术方案是:一种地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法,其特征在于:低压注浆前完成地下洞室顶拱相应部位的支护措施;完成地下洞室顶拱相应部位的注浆孔位放样和开孔;将所有注浆孔分为先进行注浆的Ⅰ序注浆孔和后进行注浆的Ⅱ序注浆孔,遵循逐渐加密原则进行分序注浆,采用全孔一次注浆法,止浆塞布置在注浆孔孔口位置;所述Ⅰ序注浆孔的注浆材料采用普硅水泥,该普硅水泥水灰比具有多个级别,当注入率大于预设值时,采用浓一级的水灰比浆液灌注;所述Ⅱ序注浆孔的注浆材料采用超细水泥,该超细水泥水灰比具有多个级别,当注入率大于预设值时,采用浓一级的水灰比浆液灌注。
技术领域
本发明涉及一种地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法。适用于高地应力或不利地质结构面作用下地下洞室顶拱浅表层围岩中。
背景技术
地下洞室顶拱在开挖期间及开挖完成后依靠围岩自身完整性和承载能力能保持顶拱的稳定性,但在高地应力或不利地质结构面作用下,顶拱围岩应力会持续调整导致浅表围岩松弛破裂,削弱围岩的自身完整性和承载能力,甚至会造成围岩松弛圈进一步向深部扩展,威胁地下洞室整体的安全性。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:针对上述存在的问题,提供一种地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法,以保证地下洞室顶拱在高地应力或不利地质结构面作用下能保持顶拱围岩承载承载能力,改善顶拱围岩应力传递性能。
本发明所采用的技术方案是:一种地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法,其特征在于:
低压注浆前完成地下洞室顶拱相应部位的支护措施;
完成地下洞室顶拱相应部位的注浆孔位放样和开孔;
将所有注浆孔分为先进行注浆的Ⅰ序注浆孔和后进行注浆的Ⅱ序注浆孔,遵循逐渐加密原则进行分序注浆,采用全孔一次注浆法,止浆塞布置在注浆孔孔口位置;
所述Ⅰ序注浆孔的注浆材料采用普硅水泥,该普硅水泥水灰比具有多个级别,当注入率大于预设值时,采用浓一级的水灰比浆液灌注;
所述Ⅱ序注浆孔的注浆材料采用超细水泥,该超细水泥水灰比具有多个级别,当注入率大于预设值时,采用浓一级的水灰比浆液灌注。
所述普硅水泥水灰比采用3:1、2:1、1:1、0.8:1和0.5:1,共5级,开灌水灰比3:1。
所述Ⅰ序注浆孔的注入率大于30L/min时,换浓一级水灰比浆液灌注。
所述超细水泥水灰比采用0.8:1、0.5:1,共2级,开灌水灰比0.8:1。
所述Ⅱ序注浆孔的注入率大于30L/min时,换浓一级水灰比浆液灌注。
所述注浆孔的注入率不大于1L/min后继续灌注30分钟,结束注浆。
全孔注浆完毕后,先采用导管注浆法将注浆孔内余浆置换成为水灰比0.5的浓浆,而后将止浆塞塞在孔口继续使用这种浆液进行纯压式灌浆封孔,封孔注浆压力为0.2MPa。
往所述注浆孔灌注浆液的注浆压力值取0.1~0.2MPa。
本发明的有益效果是:本发明通过分序、逐渐加密的注浆方式完成浅表层围岩低压注浆,施工方案,稳定可靠,能保持顶拱围岩承载承载能力,改善顶拱围岩应力传递性能。本发明中Ⅰ序注浆孔采用普硅水泥,Ⅱ序注浆孔采用超细水泥,并配有多个水灰比浓度,当注入率大于预设值时,采用浓一级的水灰比浆液灌注,保证注浆完成质量。
附图说明
图1为实施例的结构示意图。
具体实施方式
本实施例为一种地下洞室顶拱浅表层围岩低压注浆方法,具体包括以下步骤:
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