[发明专利]一种铜金属蚀刻液组合物及其使用方法在审
申请号: | 202210511182.3 | 申请日: | 2022-05-11 |
公开(公告)号: | CN115011963A | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 徐帅;李闯;张红伟;黄海东;胡天齐;王毅明 | 申请(专利权)人: | 江苏和达电子科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/18 | 分类号: | C23F1/18 |
代理公司: | 上海诺名知识产权代理事务所(普通合伙) 31456 | 代理人: | 韩后良 |
地址: | 212200 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种铜金属蚀刻液组合物及其使用方法,涉及的是蚀刻液领域。本申请中的铜金属蚀刻液包括主剂和辅剂,主剂的制备原料包括:过氧化物、氟离子源、磺酰胺酸、氨基化合物、稳定剂、杂环化合物、超纯水,辅剂的制备原料包括氟离子源、酸性物质、氨基化合物、稳定剂、杂环化合物、超纯水,使用时将主剂与含铜金属层相接触,随后补加铜金属蚀刻液组合物中的辅剂,具有极小的CD‑Loss值,能够完全满足小尺寸超高精细产品生产,而且具有极高的寿命,铜离子浓度可达14000ppm以上,有效降低了蚀刻液的使用量,节约成本,后锥角在45‑55°之间,不会导致后续膜层断线等不良,对玻璃腐蚀程度极低,基板可返工再次使用,节约基板,刻蚀稳定性强。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 蚀刻 组合 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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