[发明专利]一种铜金属蚀刻液组合物及其使用方法

权利要求书

1.一种铜金属蚀刻液组合物，其特征在于，其制备原料包括：主剂、辅剂；

所述主剂的制备原料，包括：过氧化物、氟离子源、酸性物质、氨基化合物、稳定剂、杂环化合物、超纯水。

2.如权利要求1所述的一种铜金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述主剂的制备原料，按质量百分比计，包括：1～20％过氧化物、0.01～1％氟离子源、1～15％酸性物质、0.1～15％氨基化合物、0.01～1％稳定剂、0.01～1％杂环化合物、超纯水余量。

3.如权利要求1或2所述的一种铜金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述过氧化物选自过氧化氢、过氧化钾、过氧乙酸、过氧化镁、过碳酸钠中的至少一种。

4.如权利要求3所述的一种铜金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述氟离子源选自氟化钠、氢氟酸、氟化铵、氟化氢铵、氟化钾、氟硼酸铵、三氟乙酸中的至少一种。

5.如权利要求4所述的一种铜金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述氟离子源为氢氟酸。

6.如权利要求2所述的一种铜金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述酸性物质选自脂肪酸镁盐、羟乙酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、磺酰胺酸、N-羟乙基乙二胺三乙酸、二乙胺五乙酸、酒石酸中的至少一种。

7.如权利要求1所述的一种铜金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述氨基化合物选自乙二胺、二乙醇胺、二乙氨基丙胺、二甲基乙醇胺、丙二胺、氧化四甲铵、三乙醇胺、异丙醇胺、二甲基乙二胺、三羟甲基氨基甲烷中的至少一种。

8.如权利要求1所述的一种铜金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述稳定剂选自羟基乙叉二膦酸、苯基羰酰二胺、对氨基苯基羰酰二胺、聚丙烯酸胺、对羟基苯磺酸钠、对氨基苯基羰酰二胺、对羟基苯磺酸、吡啶二羧酸中的至少一种。

9.如权利要求1所述的一种铜金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述辅剂的制备原料包括：氟离子源、酸性物质、氨基化合物、稳定剂、杂环化合物、超纯水。

10.一种如权利要求1～9任一项所述的铜金属蚀刻液组合物的使用方法，其特征在于，的使用方法，将上述铜金属蚀刻液组合物中的主剂与含铜金属层相接触，随后补加铜金属蚀刻液组合物中的辅剂。