[发明专利]一种低成本磁控溅射用钼管靶的制备方法在审
| 申请号： | 202210344344.9 | 申请日： | 2022-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN115007866A | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 李鹏;吴建国;赵腾飞;付立政;张外平 | 申请（专利权）人： | 中钨稀有金属新材料（湖南）有限公司 |
| 主分类号： | B22F5/12 | 分类号： | B22F5/12;C23C14/35;B22F9/04;B22F3/04;B22F3/10;B22F5/10 |
| 代理公司： | 长沙永星专利商标事务所(普通合伙) 43001 | 代理人： | 周咏;林毓俊 |
| 地址： | 410299 湖南省长沙*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低成本磁控溅射用钼管靶的制备方法，包括以下步骤：1)将高纯度的钼粉在保护气氛下进行高能球磨，球磨完毕后过筛，得到球磨后的钼粉；2)将球磨后的钼粉通过振动装料的方式装入等静压模具中，然后将装有钼粉的模具进行压制，压制完毕后，脱模，得到钼管靶压坯；3)将含有圆弧面的支撑台放置入卧式中频烧结炉中，接着将钼管靶压坯放置在含有圆弧面的支撑台上，支撑台对钼管靶材压坯起到支撑作用，放置好后，进行烧结，得到烧结后的管靶，将进行直接机加工制备成磁控溅射用钼管靶。本发明通过采用含有圆弧面支撑台进行支撑，明显的提高了钼管靶压坯沿圆周方向收缩变形的一致性，烧结产品圆周方向尺寸形状的均匀性大大提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低成本 磁控溅射 用钼管靶 制备 方法 | ||
【主权项】：
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