[发明专利]半导体结构及半导体结构的制备方法、存储器在审

专利信息
申请号: 202210325597.1 申请日: 2022-03-29
公开(公告)号: CN114725106A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 刘佑铭 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 成丽杰
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本公开实施例涉及一种半导体结构及半导体结构的制备方法、存储器,半导体结构包括:基底;在基底上阵列排布的多个半导体柱组,每个半导体柱组包括相互分立的多个半导体柱,且每个半导体柱具有沟道区以及位于沟道区相对两侧的源漏区;多条位线,每条位线在第一方向上延伸,且与沿第一方向排列的一行半导体柱组的各个半导体柱组中的多个半导体柱的底部源漏区电连接;以及多条字线,每条字线在第二方向延伸,且将沿第二方向排列的一列半导体柱组的各个半导体柱组中的每一沟道区对应的半导体柱侧面包围在内该半导体结构的每个半导体柱组可对应于一个晶体管,由于每个半导体柱组包括相互分立的多个半导体柱,有利于提高该晶体管中沟道的导通能力。
搜索关键词: 半导体 结构 制备 方法 存储器
【主权项】:
暂无信息
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