[发明专利]极紫外光曝光系统及操作微影术系统的方法在审
| 申请号： | 202210307269.9 | 申请日： | 2022-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN114967360A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 张凯傑;何开发;陈立锐;刘恒信 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种极紫外光曝光系统及操作微影术系统的方法，在半导体基板批次的曝光操作之前预热光罩，以减少曝光操作中光罩的基板至基板温度变化。光罩可在储存于光罩储存槽中时、自光罩储存槽转移至曝光工具的光罩台时、及/或在固定至光罩台进行曝光操作之前的另一位置中预热。以这种方式，通过减少预热光罩提供的曝光操作中光罩的温度变化，可减少在曝光操作中处理的半导体基板的叠对差量及错位。这提高了叠对性能，且增加了曝光工具的产能，并提高了半导体装置的品质。此外，在将光罩固定至曝光操作的光罩台之前预热光罩，可减少及/或最小化预热对曝光工具的产能及处理时间的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外光 曝光 系统 操作 微影术 方法 | ||
【主权项】：
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