[发明专利]极紫外光曝光系统及操作微影术系统的方法在审
申请号: | 202210307269.9 | 申请日: | 2022-03-25 |
公开(公告)号: | CN114967360A | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 张凯傑;何开发;陈立锐;刘恒信 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 紫外光 曝光 系统 操作 微影术 方法 | ||
1.一种操作微影术系统的方法,其特征在于,包含:
通过一微影术系统的一光罩传输系统,在该微影术系统的一曝光工具的一曝光操作之前,预热一光罩;以及
通过该光罩传输系统将该光罩传输至该曝光工具的一光罩台,
其中在以下情况中的至少一者时,预热该光罩:
在将该光罩传输至该光罩台之前,或
在将该光罩传输至该光罩台期间。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,预热该光罩包含:
使用一光罩加热器预热该光罩,其中该光罩加热器包括于该光罩传输系统中的一储存装置的一储存槽中。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,预热该光罩包含:
使用包括于该光罩传输系统中的一机械臂上的一光罩加热器预热该光罩。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,预热该光罩包含:
基于一基板批次操作预热待使用的该光罩,其中该基板批次操作被添加至该微影术系统的一处理队列。
5.一种操作微影术系统的方法,其特征在于,包含:
通过一极紫外光系统的一控制器判定一加热参数,该加热参数用于在一基板批次的一曝光操作之前,加热一光罩;及
通过该控制器提供一信号至该极紫外光系统的一光罩传输系统中的一或多个组件,以使该光罩在该曝光操作之前,基于该加热参数加热。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,判定该加热参数包含:
基于该曝光操作期间该光罩的一估计饱和温度,判定该加热参数。
7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,判定该加热参数包含:
基于以下各者中的至少一者判定该加热参数:
一曝光操作的一辐射剂量,其中该光罩为待使用的,
待在该曝光操作中使用的一辐射源能阶,或
来自与该光罩相关联的一或多个历史曝光操作的一温度数据。
8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,提供该信号至该或该些组件包含:
提供一第一信号至一光罩储存槽,以使该光罩的一温度基于该加热参数加热;及
在该光罩储存槽中加热该光罩之后,提供一第二信号至一光罩传输工具,以使该光罩的该温度在该光罩的传输期间保持不变。
9.一种极紫外光曝光系统,其特征在于,包含:
一光罩台,配置以支撑一光罩;
一热像仪,配置以在一第一曝光操作中由该光罩台支撑该光罩时,产生与该光罩相关联的一温度数据;
一控制器,配置以基于该温度,判定用于在该第一曝光操作之后的一第二曝光操作之前加热该光罩的一或多个参数;及
一或多个加热器,配置以在将该光罩置放于该光罩台上以用于该第二曝光操作之前,基于该或该些参数来加热该光罩。
10.根据权利要求9所述的极紫外光系统,其特征在于,该第一曝光操作及该第二曝光操作配置以具有一相同辐射剂量及一相同光瞳形状。
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