[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置在审

专利信息
申请号: 202210217377.7 申请日: 2022-03-07
公开(公告)号: CN114613898A 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 黄远科 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 吕姝娟
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置,阵列基板的制备方法包括:提供玻璃基板,其中,玻璃基板具有预设厚度,之后,在玻璃基板上制备图案化的金属膜层,最后,将玻璃基板从预设厚度减薄至目标厚度,本发明所提供的阵列基板的制备方法,由于会在较厚的玻璃基板上制备好图案化的金属膜层后,再将该玻璃基板减薄至目标厚度,避免了在沉积金属膜层的过程中,由于因完整的金属膜层会具有较大的应力,而导致出现玻璃基板翘曲的现象。
搜索关键词: 阵列 制备 方法 以及 显示装置
【主权项】:
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