[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置

说明书

本发明提供了一种阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置，阵列基板的制备方法包括：提供玻璃基板，其中，玻璃基板具有预设厚度，之后，在玻璃基板上制备图案化的金属膜层，最后，将玻璃基板从预设厚度减薄至目标厚度，本发明所提供的阵列基板的制备方法，由于会在较厚的玻璃基板上制备好图案化的金属膜层后，再将该玻璃基板减薄至目标厚度，避免了在沉积金属膜层的过程中，由于因完整的金属膜层会具有较大的应力，而导致出现玻璃基板翘曲的现象。

技术领域

本发明总体上涉及显示面板技术领域，具体的，涉及一种阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置。

背景技术

和目前市面上主流的液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)以及有机电致发光(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示装置相比，Mini-LED显示装置具有反应快、高色域、低能耗等优势，因此，Mini-LED显示装置的发展成为了未来显示技术的热点之一。

基于此，如何保证Mini-LED显示装置的可靠性，是目前需要解决的技术问题。

发明内容

为了解决上述问题或其他问题，本发明提供了以下技术方案。

第一方面，本发明提供了一种阵列基板的制备方法，所述制备方法包括：

提供玻璃基板，其中，所述玻璃基板具有预设厚度；

在所述玻璃基板上制备图案化的金属膜层；以及，

将所述玻璃基板从所述预设厚度减薄至目标厚度。

根据本发明一实施例的制备方法，其中，在所述将所述玻璃基板从所述预设厚度减薄至目标厚度的步骤之前，还包括：

形成覆盖所述图案化的金属膜层的抗刻蚀膜层。

根据本发明一实施例的制备方法，其中，在所述将所述玻璃基板从所述预设厚度减薄至目标厚度的步骤之后，还包括：

去除所述抗刻蚀膜层。

根据本发明一实施例的制备方法，其中，所述在所述玻璃基板上制备图案化的金属膜层的步骤，具体包括：

在所述玻璃基板上沉积金属膜层；以及，

对所述金属膜层进行图案化，得到图案化的金属膜层。

根据本发明一实施例的制备方法，其中，使用物理气相沉积法形成所述金属膜层。

根据本发明一实施例的制备方法，其中，在所述对所述金属膜层进行图案化的步骤中，使用黄光工艺以及湿法刻蚀工艺其中至少之一。

根据本发明一实施例的制备方法，其中，在所述将所述玻璃基板从所述预设厚度减薄至目标厚度的步骤中，使用氢氟酸以及抛光工艺其中至少之一。

根据本发明一实施例的制备方法，其中，所述金属膜层的材料包括铜。

第二方面，本发明还提供了一种阵列基板，所述阵列基板包括：

玻璃基板，所述玻璃基板位于一水平面上，且具有目标厚度；以及，

图案化的金属膜层，所述图案化的金属膜层设置于所述玻璃基板上。

第三方面，本发明还提供了一种显示装置，包括上述阵列基板。