[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板以及显示装置在审
| 申请号： | 202210217377.7 | 申请日： | 2022-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN114613898A | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 黄远科 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/62 | 分类号： | H01L33/62 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 吕姝娟 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列 制备 方法 以及 显示装置 | ||
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
提供玻璃基板，其中，所述玻璃基板具有预设厚度；
在所述玻璃基板上制备图案化的金属膜层；以及，
将所述玻璃基板从所述预设厚度减薄至目标厚度。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述将所述玻璃基板从所述预设厚度减薄至目标厚度的步骤之前，还包括：
形成覆盖所述图案化的金属膜层的抗刻蚀膜层。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在所述将所述玻璃基板从所述预设厚度减薄至目标厚度的步骤之后，还包括：
去除所述抗刻蚀膜层。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述玻璃基板上制备图案化的金属膜层的步骤，具体包括：
在所述玻璃基板上沉积金属膜层；以及，
对所述金属膜层进行图案化，得到图案化的金属膜层。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，使用物理气相沉积法形成所述金属膜层。
6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述对所述金属膜层进行图案化的步骤中，使用黄光工艺以及湿法刻蚀工艺其中至少之一。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述将所述玻璃基板从所述预设厚度减薄至目标厚度的步骤中，使用氢氟酸以及抛光工艺其中至少之一。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述金属膜层的材料包括铜。
9.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：
玻璃基板，所述玻璃基板位于一水平面上，且具有目标厚度；以及，
图案化的金属膜层，所述图案化的金属膜层设置于所述玻璃基板上。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的阵列基板。
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