[发明专利]缺陷检查方法及缺陷检查装置在审
| 申请号： | 202210196953.4 | 申请日： | 2022-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN115015280A | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 小林信次;松田俊介 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/896 | 分类号： | G01N21/896;G01N21/89 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够检测出光学特性的不均的缺陷检查方法。所述缺陷检查方法具有：配置工序，依次地并且满足下述的条件a1及条件a2地配置第1滤光片、光学膜、第2滤光片：(a1)所述第1滤光片的第1偏振片的吸收轴与所述被检偏振片的吸收轴所成的角度θ1为90°±5°的范围内，(a2)所述被检偏振片的吸收轴与所述第2滤光片的第2偏振片的吸收轴所成的角度θ2为90°±35°的范围内；检测工序，检测从光源照射、并依次透过所述第1滤光片、所述光学膜以及所述第2滤光片的光；以及判断工序，基于所述检测工序中的检测结果，判断所述光学膜的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 检查 方法 装置 | ||
【主权项】：
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