[发明专利]等离子体处理装置、及等离子体处理方法在审
| 申请号： | 202210151147.5 | 申请日： | 2022-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN115116813A | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 吉森大晃;嘉瀬庆久;中泽和辉 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子装置株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 黄健;臧建明 |
| 地址： | 日本神奈川县横浜市荣区笠间二*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种可抑制由污染物引起的污染的等离子体处理装置、及等离子体处理方法。实施方式的等离子体处理装置包括：第一腔室；第一排气部；等离子体产生部；第一气体供给部；第二腔室；搬送部；第二排气部；第二气体供给部；以及控制器。所述控制器在进行所述搬送部对所述处理物的搬送时，控制所述第二排气部，以使所述第二腔室内部的压力成为与所述第一腔室内部的压力大致同等，在所述搬送部对所述处理物的搬送结束时，控制所述第二气体供给部，而向所述第二腔室的内部供给所述气体。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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