[发明专利]一种单片式晶圆清洗装置有效

专利信息
申请号: 202210142064.X 申请日: 2022-02-16
公开(公告)号: CN114512427B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 黄允文;刘二壮;刘枫;刘涛;蔡斌;罗银夫 申请(专利权)人: 上海普达特半导体设备有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B08B3/04;B08B13/00
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 卢炳琼
地址: 200120 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种单片式晶圆清洗装置,包括防护罩及驱动单元,防护罩至少包括第一防护罩及第二防护罩,且第一防护罩位于第二防护罩的外围;驱动单元包括连接件、旋转件及驱动件,其中,连接件与防护罩对应设置,且连接件的第一端与防护罩相连接,旋转件设置有倾斜槽,倾斜槽与防护罩对应设置,连接件的第二端位于倾斜槽内,驱动件与旋转件相连接,通过驱动件带动旋转件往复旋转,且防护罩沿倾斜槽进行升降,以提供不同的药液流道。本发明的单片式晶圆清洗装置仅通过一套驱动单元,即可同时对多个防护罩的位置进行调节,从而可减少驱动单元数量、节约设备空间、降低日常维护及调控复杂度,且可降低成本。
搜索关键词: 一种 单片 式晶圆 清洗 装置
【主权项】:
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