[发明专利]一种具有交叉回路下部电极的制备工艺

摘要

本发明涉及下部电极制备技术领域，具体涉及一种具有交叉回路下部电极的制备工艺，包括以下步骤：步骤一，基板定位；步骤二，形成底层绝缘层；步骤三，铺设掩盖膜；步骤四，形成回路电极层；步骤五，形成非电极回路区；步骤六，形成上层绝缘层；步骤七，研磨上层绝缘层。本发明的一种具有交叉回路下部电极的制备工艺因为省略了通过研磨加工电极层来得到非电极回路的步骤，采用本发明的工艺形成电极回路后可省去大部分研磨加工的时间，同时不会出现在非电极回路区出现电极层残留从而导致两个电极层之间的导通炸裂现象。