[发明专利]套刻精度量测图形的制作方法及套刻精度量测图形在审
| 申请号： | 202210039422.4 | 申请日： | 2022-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN114236984A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 邱少稳 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开实施例涉及半导体领域，提供一种套刻精度量测图形的制作方法及套刻精度量测图形，其中，套刻精度量测图形的制作方法包括：提供晶圆；提供第一光刻胶层，第一光刻胶层具有多个平行排布的初始条状图形；以第一光刻胶层为掩膜图形化晶圆，以将初始条状图形转移到晶圆上，形成第一目标图形；提供第二光刻胶层，第二光刻胶层具有多个第一标记图形及第二标记图形，且第一标记图形沿第一方向延伸，第二标记图形沿第二方向延伸；在形成第一目标图形之后，以第二光刻胶层为掩膜图形化第一目标图形，形成第二目标图形，可以提高套刻精度量测图形的图形精度。 | ||
| 搜索关键词： | 精度 图形 制作方法 | ||
【主权项】：
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