[发明专利]偏振选择量测系统、光刻设备及其方法在审
| 申请号： | 202180073408.X | 申请日： | 2021-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN116490826A | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 道格拉斯·C·卡佩利 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 毕杨 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种检查系统、光刻设备和方法。所述检测系统包括照射系统、光学系统、光阀系统、物镜系统和检测器。所述照射系统被配置成产生照射束。所述光学系统被配置成将所述照射束拆分成第一子束和第二子束。所述光阀系统被配置成独立地控制所述第一子束和所述第二子束的传输。所述物镜系统被配置成接收来自所述光学系统的所述第一子束和所述第二束，并将所述第一子束和所述第二子束朝向具有目标结构的衬底引导。所述检测器被配置成接收所述目标结构的图像或衍射图像。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 选择 系统 光刻 设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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