[发明专利]偏振选择量测系统、光刻设备及其方法

说明书

提供了一种检查系统、光刻设备和方法。所述检测系统包括照射系统、光学系统、光阀系统、物镜系统和检测器。所述照射系统被配置成产生照射束。所述光学系统被配置成将所述照射束拆分成第一子束和第二子束。所述光阀系统被配置成独立地控制所述第一子束和所述第二子束的传输。所述物镜系统被配置成接收来自所述光学系统的所述第一子束和所述第二束，并将所述第一子束和所述第二子束朝向具有目标结构的衬底引导。所述检测器被配置成接收所述目标结构的图像或衍射图像。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年11月4日递交的美国临时专利申请号63/109，803的优先权，所述美国临时专利申请的全部内容通过引用并入本文中。

技术领域

本公开涉及光刻系统，例如，包括光刻设备中的偏振棱镜组件的检查系统。

背景技术

光刻设备是一种将期望的图案施加至衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置能够用于产生要在IC的单独的层上形成的电路图案。可以将所述图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或若干个管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网格。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐照每个目标部分，在扫描器中，通过在辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案的同时平行或反向平行于这个扫描方向同步地扫描所述目标部分来辐照每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底上。

量测系统和传感器用具有H偏振、V偏振、H和V偏振的光或无光的方式来照射衬底。传感器性能的关键参数之一是从照射系统射到衬底上的光的偏振纯度。

发明内容

需要提供具有改善的偏振态的检查系统。

在一些实施例中，检测系统包括照射系统、光学系统、光阀系统、物镜系统和检测器。所述照射系统被配置成产生照射束。所述光学系统被配置成将所述照射束拆分成第一子束和第二子束。所述光阀系统被配置成独立地控制所述第一子束和所述第二子束的传输。所述物镜系统被配置成接收来自所述光学系统的所述第一子束和所述第二束，并将所述第一子束和所述第二子束朝向具有目标结构的衬底引导。所述检测器被配置成接收所述目标结构的图像或衍射图像。

在一些实施例中，一种方法包括：经由光学系统将照射束拆分成第一子束和第二子束；经由光阀系统独立地控制所述第一子束和所述第二子束的传输；经由物镜投影系统朝向具有目标结构的衬底引导经传输的第一子束和第二子束的一部分；以及检测所述目标结构的图像或衍射图像。

在一些实施例中，光刻设备包括照射设备、投影系统和量测系统。所述量测系统包括照射系统、光学系统、光阀系统、物镜系统和检测器。所述照射系统被配置成产生照射束。所述光学系统被配置成将所述照射束拆分成第一子束和第二子束。所述光阀系统被配置成独立地控制所述第一子束和所述第二子束的传输。所述物镜系统被配置成接收来自所述光学系统的所述第一子束和所述第二束，并将所述第一子束和所述第二子束朝向具有目标结构的衬底引导。所述检测器被配置成接收所述目标结构的图像或衍射图像。

在下文中参考随附附图详细地描述本公开的另外的特征、以及各个实施例的结构和操作。应注意，本公开不限于本文描述的具体实施例。本文仅出于说明性的目的来呈现这样的实施例。基于本发明中包含的教导，相关领域技术人员将明白额外的实施例。

附图说明

并入本文中并构成说明书的一部分的随附附图图示出本公开，并且与描述一起进一步用于解释本公开的原理并使相关领域的技术人员能够完成并使用本文中描述的实施例。

图1A示出根据一些实施例的反射型光刻设备的示意图。