[发明专利]偏振选择量测系统、光刻设备及其方法

权利要求书

1.一种系统，包括：

照射系统，所述照射系统被配置成产生照射束；

光学系统，所述光学系统被配置成将所述照射束拆分成第一子束和第二子束；

光阀系统，所述光阀系统被配置成独立地控制所述第一子束和所述第二子束的传输；

物镜系统，所述物镜系统被配置成接收来自所述光学系统的所述第一子束和所述第二束，并将所述第一子束和所述第二子束朝向具有目标结构的衬底引导；以及

检测器，所述检测器被配置成接收所述目标结构的图像或衍射图像。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，在所述第一子束和所述第二子束已经穿过所述光阀系统之后，所述第一子束和所述第二子束被重新组合。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光学系统是棱镜系统，并且所述棱镜系统包括第一全内反射(TIR)表面、第二全内反射表面和偏振分束器(PBS)。

4.根据权利要求3所述的系统，其中，所述光阀系统包括：

第一光学元件和第二光学元件，所述第一光学元件和第二光学元件被配置成使所述第一全内反射表面和/或所述第二全内反射系统失效，所述第一光学元件被定位在所述第一全内反射表面附近，并且所述第二光学元件被定位在所述第二全内反射表面附近。

5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述第一光学元件和所述第二光学元件经由压电致动器被控制，以控制所述第一光学元件与所述第一全内反射表面之间的第一距离以及所述第二光学元件与所述第二全内反射表面之间的第二距离。

6.根据权利要求5所述的系统，还包括：

控制器，所述控制器被配置成控制所述压电致动器以使所述第一全内反射表面和/或所述第二全内反射表面失效。

7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光阀系统还被配置成旋转所述第一子束和/或所述第二子束的偏振。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光阀系统包括电光元件。

9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述电光元件包括液晶波片。

10.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光阀系统包括机电光阀。

11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述机电光阀包括双稳态电磁开关。

12.一种光刻设备，包括：

照射设备，所述照射设备被配置成照射图案形成装置的图案；

投影系统，所述投影系统被配置成将所述图案的图像投影到衬底上；以及

量测系统，所述量测系统包括：

照射系统，所述照射系统被配置成产生照射束，

光学系统，所述光学系统被配置成将所述照射束拆分成第一子束和第二子束，

光阀系统，所述光阀系统被配置成独立地控制所述第一子束和所述第二子束的传输，

物镜系统，所述物镜系统被配置成接收来自所述光学系统的所述第一子束和所述第二束，并将所述第一子束和所述第二子束朝向具有与所述图案相对应的目标结构的所述衬底引导，以及

检测器，所述检测器被配置成接收所述目标结构的图像或衍射图像。

13.根据权利要求12所述的光刻设备，其中，所述光学系统是棱镜系统，并且所述棱镜系统包括第一全内反射(TIR)表面、第二全内反射表面和偏振分束器(PBS)。