[发明专利]用于EUV投射曝光系统的光学元件在审
| 申请号： | 202180044780.8 | 申请日： | 2021-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN115885218A | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | H.恩基什;S.霍夫曼;J.韦伯;S.斯特罗贝尔;M.里博夫;C.诺特博姆;M.斯特姆;M.克劳斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G21K1/06;G02B5/08;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种生产用于EUV投射曝光设备的光学元件的方法，其中，成形层(22 |
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| 搜索关键词： | 用于 euv 投射 曝光 系统 光学 元件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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