[发明专利]用于受损视力矫正的基于UV激光的系统在审
| 申请号： | 202180037508.7 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN115697266A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 哈特穆特·福格尔桑;贝亚特·伯梅 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司医疗技术股份公司 |
| 主分类号： | A61F9/008 | 分类号： | A61F9/008 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 张英 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是改进基于用于受损视力矫正的UV激光的系统(UVL‑LVC系统)进行矫正后的折射结果的可预测性。该目的通过用于带有UV激光源(720，920)和用于将激光辐射(170，770)聚焦到聚焦场(260，460)中的扫描系统(160，230，730，830，930)的UVL‑LVC系统(805，905)的聚焦光学器件(300，700，800)来实现，其中，聚焦光学器件(300，700，800)包括提供会聚的聚焦场(260，460)的透镜装置(240，340)。该目的还通过为UVL‑LVC系统(805，905)生成规划数据的规划单元(P)来实现，该UVL‑LVC系统具有UV激光源(720，920)，扫描系统(160，230，730，830，930)，聚焦光学器件，用于考虑到规划数据控制UVL‑LVC系统(805,905)的控制单元(S)，其中，规划单元(P)在计算规划数据时考虑到几何损失，菲涅耳损失和/或激光辐射(170，770)在工作面中的空间延展，并且其中，规划单元(P)具有用于提供规划数据的接口。最后，该目的通过具有UV激光源(720，920)，扫描系统(160，230，730，830，930)，根据本发明的聚焦光学器件(300，700，800)，根据本发明的规划单元(P)和控制单元(S)的UVL‑LVC系统(805，905)来实现。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 受损 视力 矫正 基于 uv 激光 系统 | ||
【主权项】：
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