[发明专利]用于受损视力矫正的基于UV激光的系统

说明书

本发明的目的是改进基于用于受损视力矫正的UV激光的系统(UVL‑LVC系统)进行矫正后的折射结果的可预测性。该目的通过用于带有UV激光源(720，920)和用于将激光辐射(170，770)聚焦到聚焦场(260，460)中的扫描系统(160，230，730，830，930)的UVL‑LVC系统(805，905)的聚焦光学器件(300，700，800)来实现，其中，聚焦光学器件(300，700，800)包括提供会聚的聚焦场(260，460)的透镜装置(240，340)。该目的还通过为UVL‑LVC系统(805，905)生成规划数据的规划单元(P)来实现，该UVL‑LVC系统具有UV激光源(720，920)，扫描系统(160，230，730，830，930)，聚焦光学器件，用于考虑到规划数据控制UVL‑LVC系统(805,905)的控制单元(S)，其中，规划单元(P)在计算规划数据时考虑到几何损失，菲涅耳损失和/或激光辐射(170，770)在工作面中的空间延展，并且其中，规划单元(P)具有用于提供规划数据的接口。最后，该目的通过具有UV激光源(720，920)，扫描系统(160，230，730，830，930)，根据本发明的聚焦光学器件(300，700，800)，根据本发明的规划单元(P)和控制单元(S)的UVL‑LVC系统(805，905)来实现。

技术领域

本发明涉及一种用于受损视力矫正的基于紫外激光的系统(UVL-LVC系统)的聚焦光学机构，该系统具有用于提供激光辐射的UV激光源和用于将激光辐射在x方向和y方向上横向扫描的扫描系统。本发明还涉及一种用于为用于受损视力矫正的基于UV激光的系统生成规划数据的规划单元，该系统具有：用于提供激光辐射的UV激光源、用于将激光辐射在x方向和y方向上横向扫描的扫描系统；用于将激光辐射转向到工作面上的聚焦光学机构以及控制单元，该控制单元设计用于在考虑到规划数据情况下控制UVL-LVC系统。最后，本发明涉及一种用于受损视力矫正的基于UV激光的系统，包括用于提供激光辐射的UV激光源、用于将激光辐射在x方向和y方向上横向扫描的扫描系统、聚焦光学机构、用于生成规划数据的规划单元和控制单元，控制单元设计用于在考虑到规划数据情况下控制UVL-LVC系统。

背景技术

目前使用的UVL-LVC系统，例如Carl Zeiss Meditec股份公司的MEL系统、Schwindeye-tech Solutions有限责任公司的Amaris系统或Excelsius Medical有限责任公司的Micron系统，早已成功用于受损视力矫正。然而，它们有许多缺点和不足，这里将给出解决方案。

几乎无一例外，当今的UVL-LVC系统都配备了刚性激光射线引导系统。尽管这有利于可靠的激光射线引导，但需要使用患者卧榻在x、y、z坐标中的固定系统光圈下方移动患者床上的患者，直到用于治疗的患者眼睛正确地相对于系统的光轴进行定位。一个例外是在US 2013/0226157 A1中描述的系统，然而以某种方式和方法，刚性的激光臂本身作为一个整体定位在患者上方，但出于安全的原因仍需要将患者定位在患者床上，即患者床电气和/或机械与激光基座单元连接，这反过来会强制系统批准并需要大的安置面积。

在这样的UVL-LVC系统中，也能够通过在视觉控制下转动床上的患者头部来实现眼睛的手动静态对准或者共转，即无需借助于注册数据进行自动校正。如果不能实现自动回旋校正，这通常是不可行的，并且不能排除治疗期间患者头部的旋转，这对治疗结果至关重要。

此外，用于固定眼睛的接触界面在当今的一些UVL-LVC系统中是已知的。然而，在这样的UVL-LVC系统中，例如在US 2013/0226157 A1和US 9592156B2中所描述的，它们仅用于稳定眼睛并且没有起到真正的积极作用。许多系统根本在没有任何接触界面的情况下工作。