[发明专利]用于受损视力矫正的基于UV激光的系统

权利要求书

1.一种用于基于UV激光的系统(UVL-LVC系统，805，905)的聚焦光学机构(300，700，800)，所述系统用于受损视力矫正，所述系统具有用于提供激光辐射(170，770)的UV激光源(170,770)和用于使所述激光辐射(170，770)在x方向和y方向上并且优选也在z方向上横向扫描的扫描系统(160，230，730，830，930)，所述聚焦光学机构用于将所述激光辐射(170，770)聚焦到聚焦场(260，460)中,

其中，所述聚焦光学机构(300，700，800)包括第一透镜装置(240，340)，所述第一透镜装置设计用于提供会聚的所述聚焦场(260，460)。

2.根据权利要求1所述的聚焦光学机构(300，700，800)，其中，会聚的所述聚焦场(260，460)具有至少6mm、优选至少8mm、特别优选至少10mm的聚焦场直径。

3.根据权利要求1或2所述的聚焦光学机构(300，700，800)，其中，会聚的所述聚焦场(260，460)的每个部位都具有位于远离所述聚焦光学机构(300，700，800)的一侧上的局部曲率中点，并且其中，所述聚焦场(260，460)的每个部位优选地具有半径Rs在从8mm至50mm、优选从10mm至30mm、特别优选从12mm至20mm的范围内的聚焦场曲率。

4.一种用于基于UV激光的系统(UVL-LVC系统，805，905)的聚焦光学机构(300，700，800)，所述系统用于受损视力矫正，所述聚焦光学机构优选是根据权利要求1至3中任一项所述的聚焦光学机构，所述系统具有用于提供激光辐射(170，770)的UV激光源(720，920)和用于使所述激光辐射(170，770)在x方向和y方向上横向扫描的扫描系统(160，230，730，830，930)，其中，所述聚焦光学机构(300，700，800)包括第二透镜装置(240，340)，所述第二透镜装置设计用于在曲面(260，460)上垂直施加所述激光辐射(170，770)，其中，所述曲面(260，460)的每个部位都具有位于远离所述聚焦光学机构(300，700，800)的一侧上的局部曲率中点。

5.根据权利要求4所述的聚焦光学机构(300，700，800)，其中，所述曲面(260，460)具有至少6mm、优选至少8mm、更优选至少10mm的直径。

6.根据权利要求4或5所述的聚焦光学机构(300，700，800)，其中，所述曲面(260，460)具有半径R_F在从8mm至50mm、优选从10mm至30mm、特别优选从12mm至20mm的范围内的表面曲率。

7.根据前述权利要求中任一项所述的聚焦光学机构(300，700，800)，具有在20mm至50mm的范围内的工作间距(Δ)，和/或具有大于40mm、优选大于50mm、特别优选大于或等于60mm的光学开口。

8.根据前述权利要求中任一项所述的聚焦光学机构(300，700，800)，具有：第一透镜，所述第一透镜具有带第一折射率和第一阿贝数的第一透镜材料；以及第二透镜，所述第二透镜具有带第二折射率和第二阿贝数的第二透镜材料，其中，所述第一折射率不同于所述第二折射率，并且其中，所述第一阿贝数不同于所述第二阿贝数。

9.根据权利要求8所述的聚焦光学机构(300，700，800)，其中，所述第一透镜具有负屈光力，所述第二透镜具有正屈光力，并且其中，所述第一折射率大于所述第二折射率。

10.根据前述权利要求中任一项所述的聚焦光学机构(300，700，800)，其中，所述聚焦光学机构(300，700，800)沿射线路径具有至少两个透镜组(701，702)，在所述两个透镜组之间布置有非成像光学元件。