[发明专利]测试表面粒子污染的粒子测试系统、采样条、投射曝光设备和方法在审
| 申请号： | 202180028836.0 | 申请日： | 2021-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN115413332A | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | M.席林;M.鲁斯;M.纳格尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N1/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于测试表面(2)上的粒子污染的粒子测试系统(1)，包括用于接收粒子(5)的采样带(7)和采样装置(3)。采样装置(3)包括辊体(9)，该辊体(9)设置成在辊体的外表面(10)上引导采样带(7)。采样装置(3)被设计用于将辊体(9)与采样带(7)一起在待测试的表面(2)上滚动，以便将粒子(5)从待测试的表面(2)转移到所述采样带(7)。采样装置(3)具有引导框(22)以便将采样装置(3)在所述待检查的表面(2)上或相邻于所述待检查的表面(2)定位。引导框(22)具有至少一个接触接口(24、25)，通过至少一个接触接口(24、25)，引导框(22)搁置在待检查的表面(2)上或另一表面上。根据本发明，采样装置(3)具有第一测量装置(16)和/或第二测量装置(19)。第一测量装置(16)被设计用于检测辊体(9)的任何转动运动。第二测量装置(19)被设计用于检测辊体(9)在待检查的表面(2)上的任何接触压力。 | ||
| 搜索关键词： | 测试 表面 粒子 污染 系统 采样 投射 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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