[发明专利]测试表面粒子污染的粒子测试系统、采样条、投射曝光设备和方法

说明书

本发明涉及用于测试表面(2)上的粒子污染的粒子测试系统(1)，包括用于接收粒子(5)的采样带(7)和采样装置(3)。采样装置(3)包括辊体(9)，该辊体(9)设置成在辊体的外表面(10)上引导采样带(7)。采样装置(3)被设计用于将辊体(9)与采样带(7)一起在待测试的表面(2)上滚动，以便将粒子(5)从待测试的表面(2)转移到所述采样带(7)。采样装置(3)具有引导框(22)以便将采样装置(3)在所述待检查的表面(2)上或相邻于所述待检查的表面(2)定位。引导框(22)具有至少一个接触接口(24、25)，通过至少一个接触接口(24、25)，引导框(22)搁置在待检查的表面(2)上或另一表面上。根据本发明，采样装置(3)具有第一测量装置(16)和/或第二测量装置(19)。第一测量装置(16)被设计用于检测辊体(9)的任何转动运动。第二测量装置(19)被设计用于检测辊体(9)在待检查的表面(2)上的任何接触压力。

本申请要求德国专利申请号10 2020 201 935.5的优先权，其内容通过引用全部并入本文中。

技术领域

本发明涉及用于检查表面的粒子污染的粒子检查系统，其具有用于吸取粒子的采样条和采样装置。

本发明还涉及半导体光刻的投射曝光设备。

本发明还涉及用于检查表面的粒子污染的粒子检查系统的采样条。

本发明还涉及采样条的用法、检查表面的粒子污染的方法以及具有程序编码装置以实施检查粒子污染的方法的计算机程序产品。

背景技术

用于检测表面的粒子污染的粒子分析可以以有意义的方式用在自然科学和技术的几乎所有领域。沉积在待检查的表面上的粒子可以在粒子检查过程中的全部或通过采样进行定性和/或定量。粒子通常是不同类型的小物体，例如磨损的金属、磨损的塑料、灰尘或有机物质——取决于特定的技术应用和环境。

经常需要检查表面的粒子污染，特别是在确保技术部件的技术清洁度的过程中。该检查应确保表面的粒子污染(例如由于技术部件的制造、维护和/或操作)足够低，从而技术设备的功能没有短期或长期限制。

特别是对于投射曝光设备的部件，例如对于光学元件或机械部件的表面，低粒子污染的保证现在具有重要意义。由于半导体电路不断地小型化，对投射曝光设备的分辨率和准确度的需求等同地越来越高。对在那里使用的元件也提出了对应的高要求，这些元件尤其影响投射曝光设备内的束路径。特别地，由于分辨率的原因，现在对光学元件(例如EUV(“极紫外”)投射曝光设备的反射镜)的定位提出的要求也非常高。由于光学和机械部件所要求的高精度，还必须考虑投射曝光设备的制造过程中、维护过程中和操作过程中的粒子污染。

实践中已知的各种方法用于检查表面的粒子污染。例如，已知可以凭借压缩空气探针结合光学粒子计数器来检测表面的粒子污染。然而，这样的方法不能为小粒子提供可靠的尺寸确定的选项，因此对于尺寸分布和粒子类型的可靠陈述通常不够准确。

还已知的是，可以凭借采样条或粘合垫(例如凭借所谓的粒子测量卡，PMC)从表面采集粒子样品，然后凭借入射光或掠射光对其进行光学评估。然而，这也不能得出关于尺寸分布和粒子类型的足够有意义的结论，因为凭借入射光或掠射光进行的分析检测可能导致对粒子的覆没效应，从而导致测量结果的失真。

此外，问题在于，已知的工艺具有高度的使用者依赖性，这通常导致采样和评估中的低再现性，例如由于具有不确定的接触压力的采样条的手动接触操作。

因此，对表面进行采样以检测粒子污染的已知方法与高不准确度相关联。特别地，需要改进已知方法以便满足投射曝光设备的部件的粒子检查的高要求。

发明内容

鉴于已知的现有技术，本发明的目的是提供改进的粒子检查系统，特别是，利用该系统可以确保在检查表面的粒子污染时降低错误的倾向。