[实用新型]一种CVD反应炉炉体冷却结构有效

专利信息
申请号: 202123263907.1 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN216738521U 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 林佳继;龙占勇;罗迎春;李洪 申请(专利权)人: 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/54
代理公司: 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 代理人: 董世博
地址: 518118 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种CVD反应炉炉体冷却结构,包括炉壳冷却装置和密封冷却装置,炉壳冷却装置包括炉体,炉体设置有进出水接头和冷却腔体,进出水接头以及冷却腔体形成炉壳冷却通道,冷却介质沿炉壳冷却通道流通对炉体外壳进行冷却,密封冷却装置包括密封组件,密封组件设置有进出管组件和槽体组件,进出管组件以及槽体组件形成法兰冷却通道,冷却介质沿密封冷却通道流通对密封组件进行冷却,本实用新型将炉体设计为分段且每段为分层结构,第一半炉壳和第二半炉壳的第一通道和第二通道,冷却介质沿第一通道和第二通道流通,带走热场和石英管传递过来的热量,降低炉体外壳表面的温度,保证炉体外壳表面的温升在标准允许的范围内。
搜索关键词: 一种 cvd 反应炉 冷却 结构
【主权项】:
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