[实用新型]一种CVD反应炉炉体冷却结构有效
| 申请号: | 202123263907.1 | 申请日: | 2021-12-23 |
| 公开(公告)号: | CN216738521U | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
| 发明(设计)人: | 林佳继;龙占勇;罗迎春;李洪 | 申请(专利权)人: | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/54 |
| 代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
| 地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型公开了一种CVD反应炉炉体冷却结构,包括炉壳冷却装置和密封冷却装置,炉壳冷却装置包括炉体,炉体设置有进出水接头和冷却腔体,进出水接头以及冷却腔体形成炉壳冷却通道,冷却介质沿炉壳冷却通道流通对炉体外壳进行冷却,密封冷却装置包括密封组件,密封组件设置有进出管组件和槽体组件,进出管组件以及槽体组件形成法兰冷却通道,冷却介质沿密封冷却通道流通对密封组件进行冷却,本实用新型将炉体设计为分段且每段为分层结构,第一半炉壳和第二半炉壳的第一通道和第二通道,冷却介质沿第一通道和第二通道流通,带走热场和石英管传递过来的热量,降低炉体外壳表面的温度,保证炉体外壳表面的温升在标准允许的范围内。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 cvd 反应炉 冷却 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市拉普拉斯能源技术有限公司,未经深圳市拉普拉斯能源技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202123263907.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种变频离心冷水机组调试用具
- 下一篇:一种用于吊挂控制棒组的新型联接器
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





