[实用新型]一种氧化铝粉尘捕捉器及氧化铝镀膜设备有效
| 申请号： | 202123242990.4 | 申请日： | 2021-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN218241770U | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 任小伟;蔡凯;周芳超;王春来;任良为 | 申请（专利权）人： | 横店集团东磁股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/316 | 分类号： | H01L21/316;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 季承 |
| 地址： | 322118 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及管道维护技术领域，尤其涉及一种氧化铝粉尘捕捉器及氧化铝镀膜设备。该氧化铝粉尘捕捉器包括氧化铝存储装置、抽真空装置、第一管路和第二管路。其中，氧化铝存储装置中盛放有氧化铝粉尘。第一管路一端连通于氧化铝存储装置，另一端连通于抽真空装置。第二管路一端连通于氧化铝存储装置，另一端连通于抽真空装置，且第二管路不连通第一管路。抽真空装置远离氧化铝存储装置的一端设置有太阳能电池，氧化铝粉尘能够经过第一管路或第二管路沉积在太阳能电池的表面。氧化铝粉尘捕捉器的第一管路和第二管路独立工作，更换第一管路或第二管路时不影响氧化铝粉尘捕捉器的正常使用，提高工作效率，提高氧化铝镀膜设备的产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化铝 粉尘 捕捉 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
