[实用新型]一种半导体晶片表面抛光装置有效
申请号: | 202122832359.3 | 申请日: | 2021-11-18 |
公开(公告)号: | CN216098261U | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | 刘杰;王娟;初亚东;李孟泽;赵立群;白树军;周皓;卢锴;王晓娜;李清霞 | 申请(专利权)人: | 河南启昂半导体有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/02;B24B55/06;B24B55/00;B24B55/02 |
代理公司: | 郑州宏海知识产权代理事务所(普通合伙) 41184 | 代理人: | 白林坡 |
地址: | 464000 河南省信阳*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型创造涉及一种半导体晶片表面抛光装置,包括抛光工作台、抛光磨盘,所述的抛光工作台上设置有气孔,所述的抛光工作台的下端面设置有锥形吸尘盖,所述的锥形吸尘盖的下端设置吸尘罩,所述的吸尘罩的的两侧设置沉积仓,所述的沉积仓的的上端设置挡风板隔开主管道,所述的吸尘罩的下端设置过滤装置且连通负压源。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 晶片 表面 抛光 装置 | ||
【主权项】:
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