[实用新型]一种半导体晶片表面抛光装置有效

专利信息
申请号: 202122832359.3 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN216098261U 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 刘杰;王娟;初亚东;李孟泽;赵立群;白树军;周皓;卢锴;王晓娜;李清霞 申请(专利权)人: 河南启昂半导体有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/02;B24B55/06;B24B55/00;B24B55/02
代理公司: 郑州宏海知识产权代理事务所(普通合伙) 41184 代理人: 白林坡
地址: 464000 河南省信阳*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型创造涉及一种半导体晶片表面抛光装置,包括抛光工作台、抛光磨盘,所述的抛光工作台上设置有气孔,所述的抛光工作台的下端面设置有锥形吸尘盖,所述的锥形吸尘盖的下端设置吸尘罩,所述的吸尘罩的的两侧设置沉积仓,所述的沉积仓的的上端设置挡风板隔开主管道,所述的吸尘罩的下端设置过滤装置且连通负压源。
搜索关键词: 一种 半导体 晶片 表面 抛光 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河南启昂半导体有限公司,未经河南启昂半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202122832359.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top