[实用新型]一种用于半导体清洗设备的排水装置有效

专利信息
申请号: 202122699906.5 申请日: 2021-11-05
公开(公告)号: CN216614216U 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 周明 申请(专利权)人: 无锡市安晏克半导体有限公司
主分类号: C02F9/02 分类号: C02F9/02;B01D29/58;B01D29/96
代理公司: 北京索睿邦知识产权代理有限公司 11679 代理人: 曹蓓蓓
地址: 214135 江苏省无锡市新吴*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种用于半导体清洗设备的排水装置,其包括外壳,外壳内部的底端固定设置有电动机与抽水机,抽水机的输出端穿过外壳的侧壁与出水管固定连接;抽水机的输入端穿过隔断板;隔断板横向固定设置在外壳的内部,外壳的内壁固定设置有第一肋柱以及第二肋柱;第一肋柱的上端设置有第一过滤网;第二肋柱的上端设置有第二过滤网;外壳上端的侧壁内部贯通连接有进水管;出水管远离外壳的一端内部贯通连接有进水头;进水头的内部开设有进水口;进水头的一端固定设置有清洁头;本实用新型结构简单,便于更换,具备较好的过滤功能,可以有效降低废水中的污染物的含量,且可以多次利用清洗液,达到充分利用清洗液的目的。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 清洗 设备 排水 装置
【主权项】:
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