[实用新型]一种用于半导体清洗设备的排水装置

权利要求书

1.一种用于半导体清洗设备的排水装置，包括外壳(1)，其特征在于：所述外壳(1)内部的底端固定设置有电动机(2)与抽水机(3)，所述抽水机(3)的输出端穿过所述外壳(1)的侧壁与出水管(5)固定连接；所述抽水机(3)的输入端穿过隔断板(6)；所述隔断板(6)横向固定设置在所述外壳(1)的内部，所述外壳(1)的内壁固定设置有第一肋柱(7)以及第二肋柱(8)；所述第一肋柱(7)的上端设置有第一过滤网(9)；所述第二肋柱(8)的上端设置有第二过滤网(10)；所述外壳(1)上端的侧壁内部贯通连接有进水管(15)；所述进水管(15)远离所述外壳(1)的一端内部贯通连接有进水头(16)；所述进水头(16)的内部开设有进水口(17)；所述进水口(17)的纵截面为梯形；所述进水口(17)的外端口的直径大于内端口的直径；所述进水头(16)的一端固定设置有清洁头(18)；所述清洁头(18)采用橡胶材料制成。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的排水装置，其特征在于：所述电动机(2)的输出端与所述抽水机(3)的输入端固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的排水装置，其特征在于：所述隔断板(6)将所述外壳(1)的内部分割成相互独立的上下两部分。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的排水装置，其特征在于：所述第一肋柱(7)上端面开设有环形凹槽(701)，所述第一过滤网(9)卡合设置在所述环形凹槽(701)内。

5.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的排水装置，其特征在于：所述外壳(1)在所述第一肋柱(7)处的直径大于所述外壳(1)在所述第二肋柱(8)处的直径，所述外壳(1)在所述第一肋柱(7)处的直径大于所述第二过滤网(10)的直径。

6.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的排水装置，其特征在于：所述外壳(1)的上端卡合设置有开关门(14)，所述开关门(14)的截面为T型。

7.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的排水装置，其特征在于：所述第一过滤网(9)包括第一支撑架(11)以及设置在第一支撑架(11)内的第一滤网(12)，所述第一滤网(12)为两层；所述第一滤网(12)之间设置有活性炭层(13)。

8.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的排水装置，其特征在于：所述第二过滤网(10)包括第二支撑架和第二滤网，所述第二滤网为两层，所述第二滤网之间设置有吸附剂。

9.根据权利要求1所述的一种用于半导体清洗设备的排水装置，其特征在于：所述外壳(1)的横截面为圆形，所述外壳(1)采用不锈钢材制成。