[实用新型]一种提升PECVD镀膜均匀性的装置有效
| 申请号: | 202122492175.7 | 申请日: | 2021-10-17 |
| 公开(公告)号: | CN216473476U | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
| 发明(设计)人: | 张云鹏;王玉;赵科巍;杨飞飞;梁玲;李雪方 | 申请(专利权)人: | 山西潞安太阳能科技有限责任公司 |
| 主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
| 代理公司: | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人: | 李富元 |
| 地址: | 046000 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及太阳能电池生产领域,一种提升PECVD镀膜均匀性的装置,该装置安装在PECVD的炉管的口部内侧,包括双层管状结构、加强板,双层管状结构的夹层两端面密封,双层管状结构一端夹层密封面上有小孔,加强板有3‑4块,每块都加强板处于双层管状结构的外侧周壁上,且所有加强板处于同一个圆的圆周上,每块加强板上有一个贯穿加强板和双层管状结构外壁的带内螺纹的第一通孔,PECVD的炉管有与第一通孔配合的带螺纹的第二通孔,进气装置通过连接连接安装在第一通孔和第二通孔上。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 提升 pecvd 镀膜 均匀 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





