[实用新型]一种提升PECVD镀膜均匀性的装置有效
| 申请号： | 202122492175.7 | 申请日： | 2021-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN216473476U | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 张云鹏;王玉;赵科巍;杨飞飞;梁玲;李雪方 | 申请（专利权）人： | 山西潞安太阳能科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50 |
| 代理公司： | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人： | 李富元 |
| 地址： | 046000 山西*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提升 pecvd 镀膜 均匀 装置 | ||
1.一种提升PECVD镀膜均匀性的装置，其特征在于：该装置安装在PECVD的炉管（7）的口部内侧，包括双层管状结构（1）、加强板（2），双层管状结构（1）的夹层两端面密封，双层管状结构（1）一端夹层密封面上有小孔（3），加强板有3-4块，每块都加强板（2）处于双层管状结构（1）的外侧周壁上，且所有加强板（2）处于同一个圆的圆周上，每块加强板（2）上有一个贯穿加强板（2）和双层管状结构（1）外壁的带内螺纹的第一通孔（4），PECVD的炉管（7）有与第一通孔（4）配合的带螺纹的第二通孔，进气装置（5）通过连接连接安装在第一通孔（4）和第二通孔上。
2.根据权利要求1所述的一种提升PECVD镀膜均匀性的装置，其特征在于：双层管状结构（1）夹层间距为0.8-1cm，双层管状结构（1）内层和外层壁厚都为1mm，加强板（2）厚度为5-10mm，加强板（2）的外表面与炉管（7）的内壁接触。
3.根据权利要求1所述的一种提升PECVD镀膜均匀性的装置，其特征在于：第一通孔（4）靠近双层管状结构（1）夹层密封面无小孔的一端。
4.根据权利要求1所述的一种提升PECVD镀膜均匀性的装置，其特征在于：PECVD的炉管（7）的口部内侧有与加强板（2）对应的凹槽（6），每个凹槽（6）与每个加强板（2）的外观形状、结构、大小完全相同，使用过程中，每个加强板（2）正好处于一个凹槽（6）中。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
