[实用新型]一种芯片制造用真空覆膜设备有效

专利信息
申请号: 202122474533.1 申请日: 2021-10-14
公开(公告)号: CN216773185U 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 蒋红正 申请(专利权)人: 辽宁中盛焊接波纹管有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 沈阳工匠智诚知识产权代理事务所(普通合伙) 21256 代理人: 于婷婷
地址: 115103 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了芯片加工技术领域的一种芯片制造用真空覆膜设备,包括底箱、立柱、第二滑块、连接板和通气板,所述立柱固定连接在所述底箱的顶部左右两侧,所述第二滑块位于所述立柱的内侧,所述连接板位于所述底箱的顶部上方,所述通气板插接在所述连接板的顶部中间,所述底箱的前侧壁右侧固定连接有控制面板,所述底箱的顶部左右两侧开有第一凹槽,所述立柱的内侧壁上侧固定连接有Y轴滑轨,所述Y轴滑轨的内侧壁滑动连接有第一滑块,所述第一滑块的内侧壁之间固定连接有X轴滑轨,该芯片制造用真空覆膜设备,结构设计合理,一次可以覆膜多个不同形状或型号的芯片,无需单个的进行摆放覆膜,生产效率较高,确保了覆膜的效果。
搜索关键词: 一种 芯片 制造 真空 设备
【主权项】:
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