[实用新型]一种掩模半自动拆模平台装置有效
申请号: | 202122471702.6 | 申请日: | 2021-10-14 |
公开(公告)号: | CN216485977U | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 尤春;刘维维;韦庆宇;顾梦星 | 申请(专利权)人: | 无锡中微掩模电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F1/62 |
代理公司: | 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 | 代理人: | 邓琪 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种掩模半自动拆模平台装置,包括底座,所述底座内放置有上料托盘,所述上料托盘内放置带有保护膜的掩模版,上料托盘上方设有两个支架,其中一个支架的两侧均设有拆膜棒,所述拆膜棒的两端均设有可调节的顶针;本装置针对于手动拆膜设计,将需拆膜掩模版放置在上料托盘后,放入平台底座,按下弹簧卡扣并拧紧,将掩模版固定在平台上,同时可固定拆膜膜框;拆膜时可有效避免因掩模版晃动造成的划伤,并达到双边同时拆膜的效果,大大提高了拆膜效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 半自动 平台 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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