[实用新型]一种掩模半自动拆模平台装置有效
申请号: | 202122471702.6 | 申请日: | 2021-10-14 |
公开(公告)号: | CN216485977U | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 尤春;刘维维;韦庆宇;顾梦星 | 申请(专利权)人: | 无锡中微掩模电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F1/62 |
代理公司: | 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 | 代理人: | 邓琪 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半自动 平台 装置 | ||
本实用新型公开了一种掩模半自动拆模平台装置,包括底座,所述底座内放置有上料托盘,所述上料托盘内放置带有保护膜的掩模版,上料托盘上方设有两个支架,其中一个支架的两侧均设有拆膜棒,所述拆膜棒的两端均设有可调节的顶针;本装置针对于手动拆膜设计,将需拆膜掩模版放置在上料托盘后,放入平台底座,按下弹簧卡扣并拧紧,将掩模版固定在平台上,同时可固定拆膜膜框;拆膜时可有效避免因掩模版晃动造成的划伤,并达到双边同时拆膜的效果,大大提高了拆膜效率。
技术领域
本实用新型涉及一种掩模半自动拆模平台装置,属于电子产品光刻显影技术领域。
背景技术
掩模是半导体业、集成电路制作时所需的一种模具,可将掩模上的图形经过曝光制程复制于晶圆上。掩模保护膜是贴在铝合金框架上的一层透明薄膜,防止颗粒、灰尘等掉落在图形上。在实际贴膜过程中,由于环境、人员等原因,在贴膜过程中会有颗粒掉落,检测不合格时会要求返工;另外,客户多次使用或长时间储存掩模版时,会有保护膜脏污及破损现象,需退回掩模厂进行返工,此类产品需将保护膜拆除、清洗后再次贴膜。在手动拆膜的过程中,会将掩模版直接放置在单片盒中,然后用手按压,直接拆除保护膜,由于掩模版未固定,很容易造成掩模版划伤、效率低下且报废率高。
实用新型内容
本实用新型提供一种掩模半自动拆模平台装置用来克服现有技术中掩模版上保护膜的手动拆除易造成掩模版划伤且效率低下的缺陷。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了如下的技术方案:
本实用新型公开了一种掩模半自动拆模平台装置,包括底座,所述底座内放置有上料托盘,所述上料托盘内放置带有保护膜的掩模版,上料托盘上方设有两个支架,其中一个支架的两侧均设有拆膜棒,所述拆膜棒的两端均设有可调节的顶针。
进一步的,所述掩模版上保护膜的两侧均设有与顶针配合的孔。
进一步的,所述底座与另一个支架固定连接,两个所述支架呈交叉式连接且均被紧固件贯通,通过转动所述支架上方的紧固件可带动与拆膜棒接触的掩模版上保护膜转动。
进一步的,所述底座的四周设有若干便于固定上料托盘的弹簧卡扣。
本实用新型所达到的有益效果是:本装置针对于手动拆膜设计,将需拆膜掩模版放置在上料托盘后,放入平台底座,按下弹簧卡扣并拧紧,将掩模版固定在平台上,同时可固定拆膜膜框;拆膜时可有效避免因掩模版晃动造成的划伤,并达到双边同时拆膜的效果,大大提高了拆膜效率。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1是本实用新型的整体结构示意图;
图2是本实用新型的侧视结构示意图;
图3是本实用新型上料托盘的结构图;
图4是本实用新型图1中A处的放大图。
图中:1、底座;2、弹簧卡扣;3、拆膜棒;31、顶针;4、支架;5、上料托盘;6、紧固件;7、掩模版;71、孔。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
实施例1
如图1-4所示,一种掩模半自动拆模平台装置,包括底座1,所述底座1内放置有上料托盘5,所述上料托盘5内放置带有保护膜的掩模版7,上料托盘5的上方设有两个支架4,其中一个支架4的两侧均设有拆膜棒3,所述拆膜棒3的两端均设有可调节的顶针31。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备