[实用新型]辅助治具及干法蚀刻装置有效
| 申请号： | 202122370976.6 | 申请日： | 2021-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN216120206U | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 顾杨;陈发明;刘佳擎;韦冬;李庆;于波 | 申请（专利权）人： | 苏州芯聚半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01L33/00 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 常伟 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市自由贸易试验区苏州片*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种辅助治具及干法蚀刻装置，所述辅助治具包括：底板；侧壁，所述侧壁设置于所述底板的一侧，所述侧壁围绕所述底板的周边且朝向远离所述底板的方向突出，所述侧壁和所述底板共同限定出容置腔，所述容置腔的一端具有开口；其中，待蚀刻处理的样品自所述开口放置于所述底板上，所述样品的边缘不与所述侧壁的内表面接触，所述侧壁远离所述底板的顶表面突出于所述样品远离所述底板的第一表面。由辅助治具的侧壁遮挡作用，延伸等离子气体流通至光刻胶层的边缘的距离，降低光刻胶层边缘过蚀刻，提升光刻胶层的表面蚀刻均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
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