[实用新型]一种生产良品率高的MOCVD反应腔有效

专利信息
申请号: 202122093293.0 申请日: 2021-09-01
公开(公告)号: CN215628279U 公开(公告)日: 2022-01-25
发明(设计)人: 田青林;黎静;陈淼 申请(专利权)人: 江苏实为半导体科技有限公司
主分类号: C23C16/18 分类号: C23C16/18;C23C16/44
代理公司: 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 代理人: 谢冰
地址: 221000 江苏省徐州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种生产良品率高的MOCVD反应腔,包括反应室、滤杂机构;反应室上连接有入气管;滤杂机构安装于入气管上,滤杂机构包括滤杂箱,滤杂箱上连接有进气管,入气管和进气管均与滤杂箱内部相连通,滤杂箱内设有抽拉式过滤机构,抽拉式过滤机构包括安装件,用于安装第一筛网、第二筛网和转轴,进而可以对反应气体进行过滤;安装件滑动设于滤杂箱内,方便工作人员取下安装件,以便对第一筛网和第二筛网进行清洁。本实用新型通过反应室上相应机构的设置,可以对反应气体进行过滤,使得油污或其他颗粒不易倒吸到反应腔内,保证反应腔内MOCVD的反应质量,提高MOCVD的生产良品率,从而可以保证生产者的经济收益。
搜索关键词: 一种 生产 良品率高 mocvd 反应
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