[实用新型]一种用于栅极分隔线的刻蚀机构有效
| 申请号： | 202122076307.8 | 申请日： | 2021-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN216624198U | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 完颜俊雄;单静静;张光轩;高毅;豆海清 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/28 |
| 代理公司： | 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 | 代理人： | 张琦 |
| 地址： | 430205 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种用于栅极分隔线的刻蚀机构，刻蚀机构包括接地件、第一电极件、至少一个绝缘件以及第二电极件。绝缘件位于接地件与第一电极件之间，以使第一电极件与接地件之间具有间隙，避免第一电极件与接地件接触使第一电极件的电势降低，导致第一电极件的等离子体的密度降低。绝缘件与接地件和/或第一电极件连接，且使接地件的中轴线与第一电极件的中轴线共线；第二电极件与第一电极件对应设置，且两者之间形成操作空间。同时第一电极件与接地件之间设置有距离合适的间隙，使第一电极件与接地件感应连通，进而将第一电极件上的静电通过接地件与大地连通，避免第一电极件上带有过多的静电，击穿堆叠结构中的晶片，导致堆叠结构的损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 栅极 分隔 刻蚀 机构 | ||
【主权项】：
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