[实用新型]一种用于栅极分隔线的刻蚀机构有效

专利信息
申请号: 202122076307.8 申请日: 2021-08-30
公开(公告)号: CN216624198U 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 完颜俊雄;单静静;张光轩;高毅;豆海清 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67;H01L21/28
代理公司: 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 代理人: 张琦
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 栅极 分隔 刻蚀 机构
【权利要求书】:

1.一种用于栅极分隔线的刻蚀机构,其特征在于,所述刻蚀机构包括:

接地件;

第一电极件;

至少一个绝缘件,所述绝缘件位于所述接地件与所述第一电极件之间,以使所述第一电极件与所述接地件之间具有间隙;所述绝缘件与所述接地件和/或所述第一电极件连接,且使所述接地件的中轴线与所述第一电极件的中轴线共线;

第二电极件,所述第二电极件与所述第一电极件对应设置,且所述第一电极件与所述第二电极件之间形成操作空间。

2.如权利要求1所述的刻蚀机构,其特征在于,

所述第一电极件上靠近所述接地件的一侧设置有第一安装槽,所述接地件的至少部分位于所述第一安装槽,所述绝缘件位于第一安装槽内,且位于所述接地件的部分的外周面与所述第一安装槽的内壁面之间。

3.如权利要求2所述的刻蚀机构,其特征在于,

所述绝缘件包括第一部分以及第二部分,所述第一安装槽的内壁面包括第一底壁及连接所述第一底壁的第一内侧壁,所述接地件具有面向所述第一底壁的端面、及面向所述第一内侧壁的第一外周面,所述第一部分位于所述端面与所述第一底壁之间,所述第二部分位于所述第一外周面与所述第一内侧壁之间。

4.如权利要求1所述的刻蚀机构,其特征在于,

所述接地件具有靠近所述第一电极件的第一表面,所述第一表面设置有第二安装槽,所述第一电极件的至少部分位于所述第二安装槽,所述绝缘件位于所述第二安装槽内,且位于所述第一电极件的部分的外周面与所述第二安装槽的内壁面之间。

5.如权利要求4所述的刻蚀机构,其特征在于,

所述第一电极件包括第一主体部以及第一凸出部,所述第一主体部位于所述接地件的所述第一表面所在的一侧且具有面向所述接地件的第二表面,所述第二表面包括第一区域和绕设于所述第一区域外围的第二区域,所述第一凸出部的一端连接所述第一区域,另一端朝远离所述第一主体部的方向延伸且位于所述第二安装槽;

所述绝缘件包括第三部分以及第四部分,所述第二安装槽的内壁面包括第二底壁及连接所述第二底壁的第二内侧壁,所述第三部分位于所述第二内侧壁与所述第一凸出部的第二外周面之间,所述第四部分位于所述第一表面位于所述第二安装槽外围的部分与所述第二区域之间。

6.如权利要求1所述的刻蚀机构,其特征在于,

所述绝缘件的数量为一个,且所述绝缘件绕所述接地件的中轴线方向环设;或,所述绝缘件的数量为多个,多个所述绝缘件绕所述接地件的中轴线方向间隔设置。

7.如权利要求1所述的刻蚀机构,其特征在于,

所述接地件与所述第一电极件之间设置有定位件,所述定位件包括第一定位部和第二定位部,所述第一定位部与所述接地件连接,所述第二定位部与所述第一电极件抵接。

8.如权利要求7所述的刻蚀机构,其特征在于,

所述第一电极件上设置有让位孔,所述让位孔沿平行于所述第一电极件的中轴线的方向贯穿所述第一电极件;

所述第二定位部包括连接所述第一定位部的第五部分以及连接所述第五部分且远离所述第一定位部的第六部分,所述第五部分与所述第一电极件靠近所述接地件的一侧抵接,所述第六部分位于所述让位孔内。

9.如权利要求7所述的刻蚀机构,其特征在于,

所述接地件上靠近所述第一电极件的一侧设置有定位槽,所述第一定位部位于所述定位槽。

10.如权利要求9所述的刻蚀机构,其特征在于,

所述定位槽呈环状,所述第一定位部呈与所述定位槽适配的环状;或者,

所述第一定位部的数量为多个,多个所述第一定位部间隔设置在所述定位槽内。

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